Ανάπτυξη συστήματος πολυφασματικής
μικροσκοπίας σύμφωνων ακτίνων-Χ

κωδικός: T1EDK-04549

ΕΛΛΗΝΙΚΟ ΜΕΣΟΓΕΙΑΚΟ ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ (HMU)

ΠΟΛΥΤΕΧΝΕΙΟ ΚΡΗΤΗΣ (TUC)

ΑΙΝΟΟΥΧΑΟΥ ΠΛΗΡΟΦΟΡΙΚΗ ΑΕ (IKH)

​

Ερευνητικό πρόγραμμα XMMaS: ανάπτυξη συστήματος πολυφασματικής μικροσκοπίας στην περιοχή των ακτίνων-Χ του ακραίου υπεριώδους κενού (XUV) βάση των ερευνητικών αποτελεσμάτων των συνεργαζόμενων φορέων:

​

• Ινστιτούτο Φυσικής Πλάσματος & Λέιζερ του Ερευνητικού Κέντρου του Ελληνικού Μεσογειακού Πανεπιστημίου (IPPL-HMU), στην παραγωγή και χαρακτηρισμό υψηλών αρμονικών παραγόμενων μέσω υπερβραχέων παλμών λέιζερ

• Εργαστήριο Ηλεκτρονικής της Σχολής Ηλεκτρολόγων Μηχανικών & Μηχανικών Υπολογιστών του Πολυτεχνείου Κρήτης (TUC-HMMY), στην ανάπτυξη οπτικών και οπτοηλεκτρονικών συστημάτων, και συστημάτων πολυφασματικής απεικόνισης

• ΑΙΝΟΟΥΧΑΟΥ ΠΛΗΡΟΦΟΡΙΚΗ ΑΕ (IKH), στην εμπειρία και τεχνογνωσία στο σχεδιασμό, υλοποίηση και αυτοματοποίηση βιομηχανικών συστημάτων

​

Η ραγδαία ανάπτυξη της νανοτεχνολογίας έχει αυξήσει τις ανάγκες ταχείας απεικόνισης στη νανοκλίμακα. Σύγχρονες μεγάλες υποδομές που μπορούν να παρέχουν τέτοιες πηγές σύμφωνης ακτινοβολίας ακτίνων-Χ είναι τα laser ελεύθερων ηλεκτρονίων (XFEL). Για την ανάπτυξη, συντήρηση και στελέχωση τέτοιων υποδομών απαιτούνται τεράστιες οικονομικές επενδύσεις και αυτός είναι και ο λόγος του πολύ μικρού αριθμού τους διεθνώς. Το πρόγραμμα XMMaS στοχεύει στην ανάπτυξη επιτραπέζιου πρότυπου συστήματος γρήγορης μικροσκοπικής απεικόνισης με σύμφωνο φως, στη φασματική περιοχή ακτίνων-Χ που θα επιλεχθεί (XUV), για νανοδομημένα υλικά με τεράστιο εύρος χρήσης σε σύγχρονες τεχνολογικές εφαρμογές. Τα μοναδικά χαρακτηριστικά των πηγών XUV θα προσδώσουν προστιθέμενη αξία στο τελικό  πρότυπο  καλύπτοντας πτυχές της  απεικόνισης που μέχρι σήμερα δε δύναται να καλυφθούν από τις συμβατικές πηγές φωτός.

Επιλέγοντας τα λογότυπα των συνεργαζόμενων φορέων: IPPL of HMU, EL of TUC & IKH SA στα δεξιά της σελίδας μπορείτε να ενημερωθείτε για τις δραστηριότητές τους και τη συνεισφορά τους στο XMMaS.

​Χαρακτηριστικά εργαστηριακού πρότυπου:

• Σταθερή και χαρακτηρισμένη γρήγορη πηγή XUV σύμφωνου φωτός

• Επιλογή φασματικής περιοχής XUV

• Επίδειξη σύμφωνης, πολυφασματικής απεικόνισης περίθλασης ακτίνων-Χ
  (CDI) με διακριτική ικανότητα χωρικής ανάλυσης τάξεως 100 νανομέτρων
  και χρονικής ανάλυσης femtoseconds

Πλεονεκτήματα βιομηχανικού πρότυπου (Blueprints):

• Βιομηχανικό προϊόν υψηλής προστιθέμενης οικονομικής και εμπορικής αξίας

• Σύστημα αιχμής ικανό να καλύψει τις ανάγκες διάγνωσης και απεικόνισης σε νανοκλίμακα

• Εφαρμοσμένη επιστήμη και τεχνολογία ανταγωνιστική εγκαταστάσεων απεικόνισης XFEL καθώς:​​

• • ​ΔΕΝ απαιτούνται κοστοβόρα συστήματα λέιζερ σύγχρονων ή  ελεύθερων ηλεκτρονίων

  • οι παραγόμενες ακτίνες-X είναι ευρέος φάσματος, σταθερές και ταχύτατες

  • επίδειξη νανο-απεικόνισης με υπερβραχείς και σύμφωνες ακτίνες-X ​ ​